虚惊一场, 国内“造芯路”困难重重, 自研光刻何时能够登场?

日期:2019-11-10 15:59:35   来源:互联网   编辑:小优   阅读人数:533

国产半导体近两年来的发展开始呈现出了突飞猛进式的进步,从海思到紫光,再到中芯,国内很多半导体企业都取得了属于自己的成绩。华为海思的成绩大家有目共睹,近些年来的产品性能也比较强悍,已经逐渐趋近于成熟的地步。而紫光同样作为一家国产老牌企业,在芯片和闪存方面也有了自己的成绩。

虚惊一场, 国内“造芯路”困难重重, 自研光刻何时能够登场?(图1)

而中芯相较于这两家企业有所不同的是,中芯的模式主要类似于台积电,所以发展方向和另外两家企业有所不同。前段时间中芯也已经开始了14nm芯片的量产,从某种角度上来看,中芯未来或许将会成为国产半导体行业的“靠山”

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而对于中芯最重要的来说,应该就是光刻机了。光刻机至今还是我国尚未取得重大突破的一项领域,由于技术难度大,并且零件方面的进口也有难度,所以光刻机的制造对于国内来说一直都是难事,现如今只能够依靠进口荷兰厂商ASML的设备来进行发展。

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但是这家靠山最近却出现了一些“意外”之前根据日媒的表示,ASML厂商停止了与中芯国际的合作,也就是说ASML的光刻机设备暂时无法向中芯国际出货,就是我们口中所说的“断供”这个当时一出让很多人都感觉到了惊讶,也有不少人感觉到了悲观,毕竟光刻机方面可一直都是我国的短板,一旦断供,那么国内的半导体企业也将不能够有效 的生产,对于国内半导体企业有着非常大的影响。

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不过随后中芯国际对于此事也做出了相关的回应表示现在生产和研发一切正常,只不过是因为重新申请许可而导致的推迟发货。有了的回应之后可谓是让很多人都感觉到了虚惊一场,并不是我们所害怕的“断供”从这件事情当中我们也能够看得出光刻机对于我们国内半导体行业的重要性。

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从此件事情当中我们也能够希望光刻机方面也有自己的成绩,就像当初的华为一样,在面临真正危机的时候,“备胎”可以及时转正,避免技术或者是设备上的“卡脖子”前面也说到了,我们之所以很难生产出ASML的光刻机主要是因为在零部件方面一直受到阻断,所以才造成了现在这种结果。

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但是如果真的要让我国拿出光刻机技术,其实还真有。此前我国目前已经实现自主研发并且量产的光刻机是90nm光刻机,从技术规格上来看其实是非常落后的,毕竟技术难度非常大,需要给自主研发一定的时间。

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虽然是90nm,但是在光刻机领域中,90nm属于一个门槛阶段,迈过了这道坎,那么未来更高端的技术也将会迎刃而解,所以发展速度也会有所提升。而的相关研究院在接受采访的时候也表示,即便是出现领先禁运的情况也不用怕,因为国内的该项技术一直都在进展当中,未来在该领域当中,或许将会呈现出“弯道超车”的局面,与各个巨头企业齐头并进。

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由此可见,即便是在关键的光刻机领域当中,我们现在也在奋发图强,虽然现在还需要依靠着国外的设备,但是想必将来会有一天一定会完成“超车”这一壮举,成为令我们骄傲的存在,实现真正的自主研发和自主生产,你认为距离这一天的到来还会远吗?

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

网友评论
︶铅笔画不
▲中国光刻,我们使用的光源,为固态深紫外,不同于阿斯麦的离子束,我们的优点比较细,可使设备小巧得多,成本还低
2020-05-29 04:14 525
1515235877
呵呵,我们高兴,好了,下面就让我们来做番梳理
2020-05-24 18:18 249
多多的爸爸
河南高考试卷掉包闹剧终于落幕,4个孩子与家长说了谎,你认为他们该承担什么责任?
2020-05-27 20:19 949
要速度回复
国际上现在最先进的芯片也就是这个水平了,中兴还是回国创业吧
2020-05-29 10:33 684
郭大小姐的
如何看待国产22纳米光刻机通过验收?
2020-05-29 22:50 94
lowyet
光刻机制造瓶颈在哪里?
2020-05-28 21:55 61
mark.ma50
对于我国半导体产业这如同天降甘露,提升我国国内的半导体工艺水平的基本保障
2020-05-28 07:17 928
玛莎拉蒂丿
由于很多技术突破了物理的极限,使用的名词,不为寻常百姓所熟知,突破了极限,要的是精度,芯片体积才可以造的越来越小呀
2020-05-31 14:41 443
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